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更新日期：2024-03-23
簡要描述：
日本excimer準分子光學處理系統E172 -70使用準分子紫外光源的光學表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進行低溫表面處理，因為由于光源的特性，被照射物體的溫度不易升高。 此外，光化學反應不太可能損壞工件。
| 品牌 | 其他品牌 | 產品種類 | 臺式 |
|---|---|---|---|
| 數顯功能 | 有 | 溫控功能 | 有 |
| 產地 | 進口 |
日本excimer準分子光學處理系統E172 -70
節省空間的臺式優化
快速處理時間
僅AC100V電源
配備定時器設置處理時間
配備門聯鎖
配備臭氧處理裝置
無汞燈
內置高度調節平臺
使用準分子紫外光源的光學表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進行低溫表面處理，因為由于光源的特性，被照射物體的溫度不易升高。 此外，光化學反應不太可能損壞工件。
潤濕性、親水性、親和力改善
提高接合表面的附著力
表面改性
有機物分解、清洗
日本excimer準分子光學處理系統E172 -70
| 產品名稱 | 準分子紫外光處理機臺式實驗室規格 |
| 型號 | E172-70 |
| 波長 | 172納米 |
| 光源 | 艾西米燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續照明操作 | 10分鐘內（由于重量輕，風冷設計小） |
| 外部尺寸 | 195（寬）× 380（深） x480（高）毫米※ |
| 效用 | 電源 AC100V 50/60Hz 2A |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
