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更新日期：2024-03-16
簡要描述：
日本朝日分光asahi-spectra光譜膜厚監測儀OMD-1000這是一臺光譜膜厚監測儀，用于監測在用單色光進行氣相沉積過程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設備中，并作為膜厚監測設備完成，該設備具有氣相沉積零件制造商的專有技術。
| 品牌 | 其他品牌 | 產品種類 | 臺式 |
|---|---|---|---|
| 數顯功能 | 有 | 溫控功能 | 有 |
| 產地 | 進口 |
日本朝日分光asahi-spectra光譜膜厚監測儀OMD-1000
這是一臺光譜膜厚監測儀，用于監測在用單色光進行氣相沉積過程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設備中，并作為膜厚監測設備完成，該設備具有氣相沉積零件制造商的專有技術。
全波長范圍
在傳統型號中，波長選擇是濾光片類型，但是新產品結合了我們成熟的光譜儀，現在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機兼容的數字輸出，控制機制是從手動操作到個人計算機的命令控制。此外，通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機來控制其厚度成為可能，這是一個非常緊湊的系統，無需像其他制造商一樣具有控制器。
特征
分光鏡設計緊湊
通過提高抗噪聲性（靜電放電測試耐受電壓±5 kV）實現高度可靠的膜厚度監控
可以通過PC上的命令自動控制
通過將控制器合并到接收器主體中來實現高性價比
日本朝日分光asahi-spectra光譜膜厚監測儀OMD-1000
| 模型 | OMD-1000 |
| 光譜儀類型 | Zellny Turner類型單單色 |
| 波長范圍 | 保證范圍：380至900 nm可操作 范圍：350至1100 nm |
| 波長分辨率 | 狹縫0.5mm：4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm：8.3nm [546nm] |
| 波長精度 | ±1.0納米 |
| z小波長進給 | 0.1納米 |
| 外部控制 | RS232C |
| 外部輸出端子 | DC0-2V（滿量程） |
| 采樣間隔 | 100ms以上 |
| 靜電放電試驗耐電壓 | ±5kV（實際8kV） |
| 光源 | 12V100W鹵素燈 |
| 光強度穩定性 | ±0.1％/ h以下 |
| 輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
| 允許輸入電壓 | AC85-132V |
| 視在功率 | 340VA以下 |
| 使用環境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80％ |
