以下是針對 266nm、355nm、532nm皮秒激光器 的全面對比分析及選型建議,基于不同波長激光器的技術參數、應用場景和性能特點進行整理:
波長 | 材料吸收特性 | 典型應用場景 |
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266nm(DUV) | 高吸收率(玻璃、聚合物、半導體) | 半導體晶圓檢測、透明材料微加工、精密雕刻 |
355nm(UV) | 中等吸收率(金屬、陶瓷、塑料) | 高精度微鉆孔、薄膜加工、3D打印 |
532nm(Green) | 較低吸收率(金屬、陶瓷、部分塑料) | 金屬標記、陶瓷切割、高效工業加工 |
關鍵差異:
266nm 適用于高精度、低熱影響加工(如半導體、光學玻璃)。
355nm 平衡了精度與功率,適合微細結構加工(如PCB鉆孔)。
532nm 適用于高功率、高效率加工(如金屬切割、打標)。
型號 | 波長 | 功率 | 脈沖寬度 | 重復頻率 | 峰值功率 | 冷卻方式 | 典型應用 |
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LFX-15108 | 266nm | 15W | <15ps | 800kHz–1MHz | >2MW | 水冷+風冷 | 半導體、透明材料加工1 |
LFV-28104 | 355nm | 28W | <15ps | 200kHz–1MHz | >1.4MW | 水冷+風冷 | 高精度UV微加工1 |
LDH-G2510 | 532nm | 25W | <15ps | 200kHz–1MHz | >1.7MW | 水冷+風冷 | 金屬/陶瓷高效加工1 |
HyperRapid NXT 355-50 | 355nm | 50W | <10ps | 單發–5MHz | >75μJ | 水冷 | 高功率UV微加工9 |
PICOPOWER-RG1-1064-10K(可選532nm) | 532nm | 290mW@10kHz | <25ps | 單發–10kHz | >1.4MW | 風冷 | 科研級微加工1 |
關鍵差異:
266nm 型號(如LFX-15108)適合超精密加工,但功率較低(15W)。
355nm 型號(如LFV-28104、HyperRapid NXT 355-50)適合高功率微加工(28W–50W)。
532nm 型號(如LDH-G2510)適合工業級高效加工(25W)。
推薦型號:LFX-15108(266nm, 15W)
優勢:極短波長,適用于透明材料、半導體晶圓檢測。
缺點:功率較低,加工速度較慢。
推薦型號:LFV-28104(355nm, 28W)或 HyperRapid NXT 355-50(50W)
優勢:平衡了精度與功率,適合高精度鉆孔、3D微結構加工。
缺點:UV波長對光學元件損耗較大。
推薦型號:LDH-G2510(532nm, 25W)
優勢:高功率、高穩定性,適合大批量金屬切割/打標。
缺點:對部分高反射材料(如銅)加工效率較低。
266nm:超精密加工,但功率受限。
355nm:高精度+較高功率,適合微細結構。
532nm:工業級高效加工,性價比高。