半導體制造對氣體純度和環境濕度控制要求極為嚴格,微量水分可能導致晶圓氧化、光刻膠失效或設備腐蝕,因此高精度露點監測至關重要。TEKHNE TK-100 憑借其技術性能、快速響應能力和行業適配性,成為半導體行業的首要選擇露點儀。以下是其核心優勢分析:
測量范圍:-100°C 至 +20°C 露點,覆蓋半導體制造中高純氣體(如氮氣、氬氣)的微量水分監測需求13。
精度:±2°C,確保數據可靠性,避免因露點波動影響工藝穩定性110。
1ppbV級檢測(部分型號),適用于半導體晶圓廠超低水分控制3。
采用靜電容量式(電容式)陶瓷傳感器,基于薄膜技術,對水分子吸附極其敏感,響應速度遠超傳統傳感器38。
傳感器厚度僅0.5微米,可檢測水蒸氣含量的微小變化,確保實時監測8。
潔凈室與干燥室管理:維持35%-65% RH范圍,防止芯片腐蝕或顯影液揮發問題4。
高純氣體控制:監測氨氣、氬氣等工藝氣體中的水分,避免晶圓污染410。
手套箱與熱處理爐:確保惰性氣體環境穩定性,優化OLED和半導體封裝工藝25。
溫度補償技術:每個傳感器的特性均記錄在變送器中,確保長期穩定性35。
模塊化設計:支持直接管道安裝或旁路采樣,適配半導體設備集成需求38。
IP66防護等級(部分型號),適合潔凈室和工業環境3。
40年技術積累:TEKHNE母公司長期專注露點儀研發,TK-100系列為旗艦產品58。
全球半導體客戶驗證:廣泛應用于臺積電、三星等晶圓廠,以及有機EL(OLED)制造210。
TEKHNE TK-100憑借超低露點檢測能力、快速響應陶瓷傳感器、半導體定制化設計,成為高純氣體和潔凈環境監測的黃金標準。其技術優勢與行業適配性,使其在半導體制造、光纖生產和OLED工藝中占據不可替代的地位。