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用于貴金屬薄膜涂層設備MSP-1S的特點

  • 發布日期:2023-03-20      瀏覽次數:688
    • 用于貴金屬薄膜涂層設備MSP-1S的特點

      真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜,實際上,這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.此外,該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積,包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等.早在1970年,已經有了高質量的光學薄膜沉積案例,開發了多種光學膜層材料.這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟化物則多是用在蒸發鍍膜等工藝當中。

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      該設備專用于貴金屬薄膜涂層,用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層,以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外,樣品臺是浮動的,減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單,只需按一下按鈕,就沒有技巧。 它很小,不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。

      產品特點

      ★MSP-1S是掃描型電子顯微鏡(SEM)觀察用離子濺射成膜裝置。

      ★目標是標準裝備金鈀(Au-Pd)??蛇x擇金(Au)、鉑(Pt)、鉑鈀(Pt-Pd)。

      ★樣品臺采用減輕離子損傷的浮動方式。

      ★低電壓涂層,即使是敏感的樣品也幾乎沒有樣品損傷。

      ★用1個按鈕全自動進行排氣、涂層、泄漏。

      ★排氣系統內置RP10升/min。


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